产品介绍
低温等离子废气处理设备的技术机理:
等离子体去除恶臭是通过两个途径实现的:一个是在高能电子的瞬间是高能量作用下,打开某些有害气体分子的化学键,使其直接分解成单质原子或无害分子另一个是在大量高能电子、离子、激发态粒子和氧自由基、氢氧自由基(自由基因带有不成对电子而具有很强的活性)等作用下的氧化分解成无害产物。主要有下面几个过程:
1、在高能电子作用下,强氧化性自由基O、OH、OH2的产生
2、有机物分子受到高能电子碰撞被激发,及原子键断裂形成小碎片基团和原子
3、O、OH、HO2与激发原子、有机物分子、废气处理公司破碎的基团、其他自由基等发生一系列反应,有机物分子最终被氧化降解为CO、CO2、H2O。去除率的高低与电子能量和有机物分子结合键能的大小有关。
从除臭机理上分析,主要发生以下反应:
H2O+O2、O2-、O2+――SO3+H2O
NH3+O2、O2-、O2+――NOx+H2O
H2S去除率可达91.9%,NH3去除率可达93.4%,臭气浓度去除率可达93.6%。
从上述反应来看,恶臭组分经过处理后,转变为NOx、SO2、CO2、H2O等小分子,在一定的浓度下,各种反应的转化率均在95%以上,而且恶臭浓度较低,因此产物的浓度极低,均能被周边的大气所接受。
等离子体去除恶臭是通过两个途径实现的:一个是在高能电子的瞬间是高能量作用下,打开某些有害气体分子的化学键,使其直接分解成单质原子或无害分子另一个是在大量高能电子、离子、激发态粒子和氧自由基、氢氧自由基(自由基因带有不成对电子而具有很强的活性)等作用下的氧化分解成无害产物。主要有下面几个过程:
1、在高能电子作用下,强氧化性自由基O、OH、OH2的产生
2、有机物分子受到高能电子碰撞被激发,及原子键断裂形成小碎片基团和原子
3、O、OH、HO2与激发原子、有机物分子、废气处理公司破碎的基团、其他自由基等发生一系列反应,有机物分子最终被氧化降解为CO、CO2、H2O。去除率的高低与电子能量和有机物分子结合键能的大小有关。
从除臭机理上分析,主要发生以下反应:
H2O+O2、O2-、O2+――SO3+H2O
NH3+O2、O2-、O2+――NOx+H2O
H2S去除率可达91.9%,NH3去除率可达93.4%,臭气浓度去除率可达93.6%。
从上述反应来看,恶臭组分经过处理后,转变为NOx、SO2、CO2、H2O等小分子,在一定的浓度下,各种反应的转化率均在95%以上,而且恶臭浓度较低,因此产物的浓度极低,均能被周边的大气所接受。
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